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      超純水設(shè)備核心技術(shù)解析

      時(shí)間:2024-10-30

        在全球數(shù)字化加速轉(zhuǎn)型和信息科技競(jìng)爭(zhēng)加劇的背景下,芯片需求旺盛,導(dǎo)致相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)能提升。特別是超純水設(shè)備在芯片生產(chǎn)中的重要性,因?yàn)樾酒圃爝^(guò)程中幾乎每道工序都需要超純水清洗。當(dāng)前芯片產(chǎn)業(yè)使用的超純水設(shè)備的核心技術(shù),包括反滲透工藝、EDI模塊和拋光混床工藝,這些技術(shù)共同確保了超純水的高品質(zhì),滿足了芯片行業(yè)的嚴(yán)格用水需求。

      超純水設(shè)備

        超純水設(shè)備核心技術(shù)解析:

        反滲透工藝: 反滲透是一種借助于選擇性膜的功能以壓力為推動(dòng)力的膜分離技術(shù),它能夠有效去除水中溶解鹽類、有機(jī)物等,降低離子含量,確保出水水質(zhì)的安全與純凈。

        EDI模塊: 通過(guò)電滲析的方式連續(xù)產(chǎn)生超純水,進(jìn)一步提升了超純水設(shè)備的性能。該過(guò)程無(wú)需酸堿再生,自動(dòng)化程度高,出水電阻率≥17MΩ·CM。

        拋光混床工藝: 這是一種專門用于高純度水處理系統(tǒng)的終端精制技術(shù),能夠?qū)⑺械碾x子含量降低至很低的水平,出水電阻率可達(dá)18MΩ·CM以上。

        綜上所述,超純水設(shè)備通過(guò)反滲透、EDI模塊以及拋光混床等一系列先進(jìn)的水處理工藝,不僅能夠有效去除水中的各種雜質(zhì)和有害物質(zhì),還能確保出水水質(zhì)達(dá)到甚至超過(guò)行業(yè)高標(biāo)準(zhǔn),為各領(lǐng)域的精密應(yīng)用提供了可靠的水質(zhì)保障。

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        編輯:虞美人   技術(shù):加菲

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